Actualment, DB-FIB (Dual Beam Focused Ion Beam) s'aplica àmpliament en investigació i inspecció de productes en camps com ara:
materials ceràmics,Polímers,materials metàl·lics,Estudis biològics,Semiconductors,Geologia
Materials semiconductors, materials orgànics de molècules petites, materials polímers, materials híbrids orgànics/inorgànics, materials inorgànics no metàl·lics
Amb el ràpid avenç de l'electrònica de semiconductors i les tecnologies de circuits integrats, la creixent complexitat de les estructures de dispositius i circuits ha augmentat els requisits per al diagnòstic de processos de xips microelectrònics, l'anàlisi de fallades i la fabricació micro/nano.El sistema Dual Beam FIB-SEM, amb les seves potents capacitats de mecanitzat de precisió i anàlisi microscòpica, s'ha convertit en indispensable en el disseny i fabricació microelectrònica.
El sistema Dual Beam FIB-SEMintegra tant un feix d'ions enfocats (FIB) com un microscopi electrònic d'escaneig (SEM). Permet l'observació SEM en temps real dels processos de micromecanitzat basats en FIB, combinant l'alta resolució espacial del feix d'electrons amb les capacitats de processament de materials de precisió del feix d'ions.
Lloc-Preparació específica de la secció transversal
TImatge i anàlisi de mostres EM
SInspecció de gravat optativa o millorada
MProves de deposició d'etal i capa aïllant